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詳細(xì)介紹
PECVD系統(tǒng)，它由管式爐，石英真空室、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。主要使用于:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，石墨烯等生長(zhǎng)。增加功能容易，可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能。該P(yáng)ECVD系統(tǒng)具有： 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。
RF射頻電源主要技術(shù)參數(shù)：
| 功率輸出范圍 | 0-500W |
| 反射功率 | 200W |
| 工作頻率 | 射頻：13.56MHZ±0.005% |
| 功率穩(wěn)定度 | +/-0.1% |
| 諧波分量 | ≤-50dbc |
| 射頻區(qū)域?qū)挾?/p> | 0-600mm 可調(diào) |
| 匹配方式 | 自動(dòng) |
| 冷卻方式 | 分冷 |
| 噪聲 | <50dB |
| 射頻接口 | 50Ω N-type |
| 輸入電源 | 208-240V 50/60HZ |
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